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Dans la course à la miniaturisation que connaît la microélectronique depuis près de 40 ans, Intel sera bientôt en passe de franchir un nouveau pas, et non des moindres.
Le géant de Santa Clara va dépenser entre 1 et 1.5 milliard de dollars dans son usine de Rio Rancho au Nouveau Mexique, afin de passer à la production de microprocesseurs ayant une finesse de gravure de 45nm.
Le passage du 65nm (actuel processeur Core Duo) au 45nm a pu se faire grâce à plusieurs évolutions technologiques majeures. Intel sera en effet le premier fondeur à utiliser un matériau high-k comme diélectrique de grille, ainsi qu'un nouveau mélange métal-hafnium comme grille, au lieu des classiques SiO2 et polysilicium. Sans ces innovations, les courants de fuite des transistors auraient été beaucoup trop importants.
La nouvelle famille de processeurs bénéficiant de cette finesse de gravure de 45nm porte le nom de code Penryn. Techniquement, elle conservera l'architecture du Core Duo, mais les puces auront des dimensions réduites grâce à la meilleure finesse de gravure. Le nombre de transistors atteindra 410 millions dans la version double coeur, et 820 millions dans une variante quadri-coeur. Par rapport au Core Duo, le Penryn devrait afficher un gain de performance d'environ 20%.
Le site actuel de Rio Rancho (Fab 11X) utilise actuellement une technologie 90nm sur substrats de 300mm. Le milliard de dollars sera utilisé pour remodeler et équiper l'usine pour pouvoir passer au 45nm, et ce à partir de la mi-2008. Ce ne sera pas la seule usine d'Intel à franchir le pas: son usine en Oregon sera la première, puis viendra le tour de celles implantées en Israël et Arizona, pour lesquelles Intel dépensera respectivement 3 et 3.5 milliards de dollars supplémentaires.
- Source: BE Etats-Unis
Le géant de Santa Clara va dépenser entre 1 et 1.5 milliard de dollars dans son usine de Rio Rancho au Nouveau Mexique, afin de passer à la production de microprocesseurs ayant une finesse de gravure de 45nm.
Le passage du 65nm (actuel processeur Core Duo) au 45nm a pu se faire grâce à plusieurs évolutions technologiques majeures. Intel sera en effet le premier fondeur à utiliser un matériau high-k comme diélectrique de grille, ainsi qu'un nouveau mélange métal-hafnium comme grille, au lieu des classiques SiO2 et polysilicium. Sans ces innovations, les courants de fuite des transistors auraient été beaucoup trop importants.
La nouvelle famille de processeurs bénéficiant de cette finesse de gravure de 45nm porte le nom de code Penryn. Techniquement, elle conservera l'architecture du Core Duo, mais les puces auront des dimensions réduites grâce à la meilleure finesse de gravure. Le nombre de transistors atteindra 410 millions dans la version double coeur, et 820 millions dans une variante quadri-coeur. Par rapport au Core Duo, le Penryn devrait afficher un gain de performance d'environ 20%.
Le site actuel de Rio Rancho (Fab 11X) utilise actuellement une technologie 90nm sur substrats de 300mm. Le milliard de dollars sera utilisé pour remodeler et équiper l'usine pour pouvoir passer au 45nm, et ce à partir de la mi-2008. Ce ne sera pas la seule usine d'Intel à franchir le pas: son usine en Oregon sera la première, puis viendra le tour de celles implantées en Israël et Arizona, pour lesquelles Intel dépensera respectivement 3 et 3.5 milliards de dollars supplémentaires.
- Source: BE Etats-Unis